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四級液氮制冷預濃縮儀

四級液氮制冷預濃縮儀

更新時(shí)間:2023-06-30

產(chǎn)品型號:Ontech880

廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家

產(chǎn)品報價(jià):

產(chǎn)品特點(diǎn):Ontech880四級液氮制冷預濃縮儀是昂泰克科技在傳統三級冷阱基礎上推出的四級冷阱大氣預濃縮儀。采用四級濃縮技術(shù)輔以液氮深度冷凍捕集,突破了傳統三級冷阱技術(shù)高沸點(diǎn)化合物在除水阱冷凝丟失的弊端,帶來(lái)了更強的除水效果和工作效率,可搭配任何款式的GC或GC-MS,檢測環(huán)境空氣中的揮發(fā)性有機化合物。

產(chǎn)品詳情

Ontech880四級液氮制冷預濃縮儀

符合標準:

1、《HJ759-2023環(huán)境空氣 65 種揮發(fā)性有機物的測定罐采樣/氣相色譜-質(zhì)譜法》

2、《HJ1078-2019固定污染源廢氣 甲硫醇等8種含硫有機化合物的測定氣袋采樣-預濃縮/氣相色譜-質(zhì)譜法》

3、《2019年地級及以上城市環(huán)境空氣揮發(fā)性有機物監測方案》

解決問(wèn)題:

傳統三級冷阱預濃縮采用低溫物理除水技術(shù),在除水的同時(shí),不可避免的將高沸點(diǎn)化合物與水一同冷凝于除水阱中,而為達到較好的除水效果,除水阱無(wú)法在不排出水的情況下將高沸點(diǎn)化合特回收,因此除水效果與高沸點(diǎn)化合物的回收就成為了三級冷阱技術(shù)的矛盾點(diǎn)。

Ontech880四級液氮制冷預濃縮儀軟件特點(diǎn):

1、工作流程化繁為簡(jiǎn),工作效率提升;

2、新一代控制軟件,操作簡(jiǎn)單,功能強大,特別對于缺少預濃縮使用經(jīng)驗的用戶(hù),易于使用;

3、高精度MFC電子計量,技術(shù)成熟可靠,算法設計,可避免普通MFC啟動(dòng)時(shí)存在的流量不準難題,無(wú)需真空罐,使用便捷、靈活;

4、方法編輯功能強大靈活,運行時(shí)間流程全程自定義,可針對不同樣品和分析需求;

5、數據記錄、導出功能完善,支持各項備注;

6、可搭配任何款式的GC或GC-MS。

硬件特點(diǎn):

1、四級冷阱的分離式捕集技術(shù)可將除水與VOCs回收分離,盡可能避免了高沸點(diǎn)化合物在除水阱中的吸附損失,真正做到高沸點(diǎn)無(wú)損進(jìn)樣。得益于該技術(shù)特點(diǎn),同比傳統三級冷阱,其高沸點(diǎn)化合物響應提升170%(萘);

2、打破常規,除水阱深冷除水后無(wú)須二次加熱,帶來(lái)了良好的除水、除雜效率,同比傳統三級冷阱,除水、除雜能力提升46%;

3、工作流程化繁為簡(jiǎn),節省樣品分析周期,分析效率提升20%,不到10分鐘即可完成標準400ml TO15化合物洗脫。同時(shí)還能有效節省制冷劑,相同的液氮,更多的樣品分析量;

4、設置獨立聚焦冷阱,確保了化合物的聚焦效果,支持高壓進(jìn)樣技術(shù),使得峰形更為尖銳,支持分流、不分流、定量環(huán)等多種進(jìn)樣方式,應對各種高低濃度樣品,可適應的濃度范圍橫跨ppt至ppm級,真正做到一機通用;

5、高速氣化,升溫速率達到2000°C/分鐘,搭配發(fā)明解析技術(shù),使得化合物分離的同時(shí)峰型變窄變高。

6、集成內置進(jìn)樣器具有13個(gè)進(jìn)樣口(可不選配內置進(jìn)樣器,為3個(gè)進(jìn)樣口);還可搭配外置自動(dòng)進(jìn)樣器使用,增加至28個(gè)氣路,可接蘇瑪罐或氣袋實(shí)現批量樣品的自動(dòng)進(jìn)樣功能;

7、可靠的結構設計:樣品管路全惰性化處理,從樣品接頭到內部電磁閥閥體全程高溫加熱,真正做到樣品全程伴熱,無(wú)冷點(diǎn)無(wú)吸附。

技術(shù)參數:

靈敏度和濃縮范圍

◎ 濃縮比率:>1000:1;

◎ 檢測下限:0.1ppbv;

◎ 重現性RSD:≤3%(90%以上的化合物)。

進(jìn)樣口

◎ 獨立的內標和標氣進(jìn)樣口,配置13個(gè)附加進(jìn)樣口;

◎ 可選配自動(dòng)進(jìn)樣器(16個(gè)進(jìn)樣口)。

樣品處理能力

◎ 所有管線(xiàn)均為硅烷化不銹鋼材質(zhì);

◎ 進(jìn)樣范圍:4-2000ml(0-100%相對濕度),4ml以下支持定量環(huán)進(jìn)樣;

◎ MFC流量范圍:5-200ml/min,度±2%(標準配置);

◎ 溫控度±2℃,升溫速率360℃/min(聚焦阱大于2000℃/min)。



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